K-BOND
3 modes · 10-MDP · pH 3.5
DENTAL ADHESIVE SELECTOR
K-BOND Universal 與 EsBond 都是單瓶黏著劑,但決策核心完全不同: 三種酸蝕模式與多基材彈性,對上標準化全酸蝕 wet-bonding。
依 SPIDENT 官方產品頁、K-Bond Universal Leaflet、EsBond Leaflet 與 IFU 整理|核對:2026-07-29
3 modes · 10-MDP · pH 3.5
Total-etch · Acetone · Wet bond
PRODUCT GLOSSARY
兩款都是單瓶,但「單瓶」不代表流程相同;酸蝕策略、溶劑與牙本質濕度管理才是差異。
Universal adhesive|通用型單瓶黏著劑
Etch-and-rinse adhesive|第五代全酸蝕單瓶黏著劑
30-SECOND ANSWER
FLEXIBLE PROTOCOL
選 K-BOND Universal。 適合希望同一系統跨多種直接與間接情境的診所。
DIRECT COMPOSITE
兩款皆可。 K-BOND 提供酸蝕策略彈性;EsBond 維持熟悉的第五代全酸蝕流程。
CLASSIC TOTAL-ETCH
EsBond 是直接、清楚的選擇。 全酸蝕後維持濕潤表面,再以 acetone-based 黏著劑完成。
INTERACTIVE CASE SELECTOR
選擇酸蝕策略與修復任務;系統會給出首選方向與操作提醒。
SIDE-BY-SIDE
| 比較項目 | K-BOND Universal | EsBond |
|---|---|---|
| 產品類型 | 單瓶 universal bonding agent | 第五代單瓶 primer + adhesive |
| 酸蝕模式 | Total/selective/self-etch 三種皆可 | Total-etch wet-bonding |
| 關鍵組成/設計 | 10-MDP、多重 initiator、aliphatic amine;pH 3.5 | Pyromellitic dimethacrylate、HEMA、acetone |
| 基本黏著步驟 | 塗抹並 scrub 20 秒 → 吹 5 秒 → 光照 20 秒 | 酸蝕 15 秒 → 沖洗 10 秒 → blot → 2–3 層塗抹 15 秒 → 吹 5 秒 → 光照 |
| 光照 | Leaflet 示範 20 秒 | 1200 mW/cm²:20 秒;600 mW/cm²:30 秒 |
| 適用方向 | 直接 composite、修補、根面去敏;官方頁也列直接與間接程序 | 本頁以光固化直接 composite 與一般修補流程為主 |
| 臨床優勢 | 同一瓶切換三種酸蝕策略、低膜厚、流程彈性高 | 團隊熟悉的第五代全酸蝕流程、濕黏著技術可預期 |
| 最容易出錯 | 以為 universal 就不需主動 scrub、吹薄與完整光照 | 牙本質過度乾燥、積水,或沒有連續塗佈 2–3 層 |
MARKET MAP · DOCTOR & SALES REFERENCE
本區把現行 universal adhesive 與經典第五代 etch-and-rinse adhesive 分開。 「同類」只代表臨床選材位置接近,不代表配方、相容性、修補前處理或 IFU 可以逐條互換。
如果醫師熟悉 Scotchbond Universal Plus、CLEARFIL Universal Bond Quick 2、 Adhese Universal、G-Premio BOND 或 Prime&Bond active, K-BOND 可先理解為同一大類的單瓶 universal adhesive。
如果醫師熟悉 Adper Single Bond 2、OptiBond Solo Plus 或 Prime&Bond NT, EsBond 可先理解為同一大類的第五代、單瓶、光固化 total-etch adhesive。
CURRENT UNIVERSAL ADHESIVES
| 代碼/公司與產品 | 模式與關鍵化學 | 原廠操作摘要 | 公開參數 | 業務辨識點 |
|---|---|---|---|---|
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KB
SPIDENT K-BOND Universal |
三模式;10-MDP、多重 initiator;pH 3.5。 | Scrub 20 秒 → 吹 5 秒 → 光照 20 秒 | 膜厚 6 μm SPIDENT R&D internal data |
三模式與多基材彈性;流程時間不可直接套用其他 universal adhesive。 |
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SBU+
Solventum 3M Scotchbond Universal Plus |
三模式;含 MDP;ethanol/water solvent system;pH 約 2.7。 | Scrub 20 秒 → 柔和吹氣約 5 秒 → 光照 10 秒 | 原廠強調 radiopaque、免獨立 silane 的多用途設計;完整適應症依 IFU。 | 醫師熟悉度高;與 K-BOND 同屬 universal 類,但光照時間與間接流程不同。 |
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CUQ2
Kuraray Noritake CLEARFIL Universal Bond Quick 2 |
三模式;Original MDP+amide/UTM monomers;ethanol/water;pH 2.4。 | 塗佈後不等待、無須主動 rubbing → 吹乾 > 5 秒 → 依光源表光照 | 膜厚 3–5 μm 現行 Quick 2 原廠 FAQ |
主打 no-wait/no-rub;不可把前代 Universal Bond Quick 的 IFU 或數據混入。 |
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AU
Ivoclar Adhese Universal |
三模式;單組分光固化 universal adhesive。 | Scrub ≥ 20 秒 → 吹至薄而有光澤 → 10 秒 高能量指定光源可縮短至 5/3 秒 |
膜厚約 10 μm;牙體黏著 > 25 MPa 原廠公開值 |
VivaPen 與短光照是辨識點;2026 部分市場另有 Adhese 2,兩者資料不能混用。 |
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GPB
GC G-Premio BOND |
三模式;10-MDP/4-MET/MDTP;pH 1.5。 | 塗佈後不等待 → 強風吹乾約 5 秒 → 依光源 5/10 秒 | 膜厚 3 μm GC 官方產品頁 |
較低 pH、薄膜與無等待操作;未切削琺瑯質仍需磷酸處理。 |
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PBA
Dentsply Sirona Prime&Bond active |
三模式;MDP+PENTA;isopropanol/water;pH 2.7。 | 持續 agitate 20 秒 → 吹 ≥ 5 秒 → 光照 10/20 秒 依光強 |
原廠強調低膜厚與 Active-Guard moisture control;未公開單一通用膜厚值。 | 濕度容忍與低黏度是定位;dual-cure 相容規則仍依搭配材料與 IFU。 |
ETCH-AND-RINSE REFERENCE
| 代碼/公司與產品 | 類別/溶劑 | 牙體與黏著流程 | 公開參數 | 與 EsBond 的差異 |
|---|---|---|---|---|
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EB
SPIDENT EsBond |
第五代、單瓶、光固化;acetone-based wet-bonding。 | FineEtch 10–15 秒 → 沖洗 10 秒 → blot → 2–3 層摩擦 15 秒 → 吹 5 秒 → 光照 20 秒 | Composite resin:enamel 31/dentin 16 MPa。 Yonsei University test |
丙酮、glistening dentin 與連續 2–3 層是核心技術點。 |
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ASB2
Solventum 3M Adper Single Bond 2 |
第五代 total-etch、光固化;ethanol/water;10% 5 nm colloidal filler。 | 酸蝕 15 秒 → 沖洗 10 秒 → blot 保濕 → 連續 2 層 → 吹 5 秒 → 光照 10 秒 | 膜厚約 10 μm Solventum IFU |
同屬 wet-bonding,但不是 acetone-based;不能照 EsBond 的層數與光照秒數互換。 |
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OSP
Kerr OptiBond Solo Plus |
單瓶 total-etch;ethanol-based;15 wt% 0.4 μm filler。 | 磷酸酸蝕與單瓶黏著流程;精確 application/光照依所在地 IFU。 | 原廠公開 15% filled/0.4 μm filler;未集中公布單一通用膜厚。 | 填料量與 ethanol solvent 是辨識點;不是 acetone wet-bonding 的同一操作手感。 |
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PBN
Dentsply Sirona Prime&Bond NT |
第五代 etch-and-rinse;PENTA、nanofiller、acetone。 | 牙本質酸蝕 ≤ 15 秒 → 沖洗 ≥ 10 秒 → blot → 塗佈/溶劑揮發 → 光照 10 秒 | 原廠 IFU 列 acetone+PENTA+nanofiller;膜厚未集中公布。 | 同為 acetone-based,定位最容易理解;仍不可把各自塗佈時間、層數與相容性混用。 |
版本提醒:Adper Single Bond 2、OptiBond Solo Plus、Prime&Bond NT 在不同國家可能是現售、舊包裝或既有使用者產品; 本表用來建立熟悉座標,不代表台灣當期供貨。CLEARFIL Universal Bond Quick 2 是 Quick 的後繼版本; Ivoclar 另於部分市場推出 Adhese 2,網站不把兩代規格混成同一支。
PUBLISHED FILM THICKNESS
K-BOND 為 SPIDENT R&D internal data;其餘為各原廠公開值。膜厚受測法與吹薄方式影響, 數字較小不等於所有 CASE 黏著更強或臨床壽命更長。
OFFICIAL PDF DATA · HTML/CSS REDRAW
Ahmed、De Munck、Van Meerbeek 等,J Adhes Dent. 2019;各黏著劑依自己的 IFU 操作。 下列數字由 Dentsply Sirona 原廠研究摘要 PDF 逐值轉錄。
Dentin microtensile bond strength · 0–60 MPa
Dentin microtensile bond strength · 0–60 MPa
3M internal data,ISO 29022:2013 notched-edge shear、bovine incisors; 依 Technical Product Profile Fig. 5 刻度約讀。
Ivoclar R&D 2014;bovine tooth、ISO 29022、5–55°C。數字依 Scientific Documentation Fig. 12 刻度四捨五入約讀。
Quick 2 與 Adper Single Bond 2 的已收集現行原廠文件沒有提供可直接轉錄、且與本頁用途相符的單一牙體黏著數據圖。 本頁不拿前代 Quick 數字冒充 Quick 2,也不從經銷商頁或不同水門汀系統反推 Adper Single Bond 2。 K-BOND 與 EsBond 的 SPIDENT 原廠數據已在下方「產品數據」區完整重畫。
查看 K-BOND/EsBond 原廠數據 ↓SALES TALK TRACK
30 秒版 · K-BOND Universal
「醫師如果熟悉 Scotchbond Universal Plus、CLEARFIL Universal Bond Quick、Adhese Universal、 G-Premio BOND 或 Prime&Bond active,K-BOND 就是在同一個 universal adhesive 選材位置。 它支援 total、selective、self-etch,含 10-MDP;自己的標準流程是 scrub 20 秒、吹 5 秒、光照 20 秒。 我們會用它的 CASE 彈性與 SPIDENT 同批內部數據說明,不會說所有競品 IFU 都能直接套用。」
30 秒版 · EsBond
「醫師如果熟悉 Adper Single Bond 2、OptiBond Solo Plus 或 Prime&Bond NT, EsBond 就是同一類第五代 total-etch 單瓶黏著劑。它是 acetone-based wet-bonding, 酸蝕沖洗後要保留 glistening dentin,再連續塗 2–3 層、吹薄、光照 20 秒。 它不是 self-etch,也不能把 universal adhesive 的省酸步驟套過來。」
在光固化直接 composite、適應症相符且團隊願意照新 IFU 操作時,可視為同類選項; 但先核對酸蝕模式、溶劑濕度需求、dual-cure 相容、基材 primer 與光照,不能只換瓶不換流程。
不應這樣比較。Universal 的核心價值是酸蝕與基材彈性;第五代的價值是團隊熟悉的 total-etch wet-bonding。 臨床結果更依賴 CASE、隔濕與流程一致性。
10-MDP 只是配方的一部分;酸度、溶劑、其他單體、膜厚、initiator、等待/scrub 與光照共同決定操作。 不能只看一個成分判斷為同一支產品。
「完全等同 3M/Kuraray」、「第八代一定黏得比較強」、「膜越薄臨床壽命一定越長」、「EsBond 可以免酸蝕」。
OFFICIAL COMPETITOR SOURCES
WORKFLOW → RESULT
「省略」只代表該產品正式流程不需要某一步,不代表可以跳過隔濕、清潔、主動塗擦、吹薄或光照。
三者決定的是「塗 K-BOND 前,磷酸要放在哪裡」;選完後都會匯入同一瓶 K-BOND 的 scrub、吹薄與光照流程。EsBond 則只有全酸蝕一條路徑。
琺瑯質邊緣多,且團隊能穩定控制牙本質濕度。
同時有琺瑯質邊緣與牙本質窩底,常是實務上的起點。
希望省去獨立磷酸與沖洗;若有重要琺瑯質邊緣,應再評估 selective。
TOTAL-ETCH / ETCH-AND-RINSE
SELECTIVE-ETCH
SELF-ETCH
FineEtch 琺瑯質+牙本質 10–15 秒 → 沖洗、乾燥
不能省酸蝕與沖洗;不採 EsBond 指定的 glistening wet-bonding 步驟。只酸蝕琺瑯質邊緣 10–15 秒 → 沖洗、乾燥
省略牙本質磷酸酸蝕與牙本質 wet-bonding 管理。窩洞清洗 → 直接塗 K-BOND
省略 FineEtch 與酸蝕後沖洗;仍不能省主動 scrub。琺瑯質與牙本質全酸蝕。
完整移除磷酸與反應產物。
表面 glistening、不可積水,也不可吹到過乾。
以飽和 applicator 主動塗擦 15 秒。
1200 mW/cm²:20 秒;600 mW/cm²:30 秒。
| 比較重點 | K-BOND Universal | EsBond |
|---|---|---|
| 可以省略什麼 | Selective-etch 可省牙本質磷酸酸蝕;self-etch 可連 FineEtch 與酸蝕後沖洗一起省略。 | 不能省略 total-etch、沖洗與 blot;它沒有 selective/self-etch 路徑。 |
| 兩款都不能省 | 隔濕、窩洞清潔、scrub 20 秒、吹薄 5 秒、光照 20 秒。 | 隔濕、濕度控制、2–3 層主動塗擦 15 秒、吹薄與充分光照。 |
| 琺瑯質結果 | Total/selective-etch 先用磷酸建立微孔洞,預期邊緣固位較佳;純 self-etch 的琺瑯質酸蝕較溫和。 | 每次都以磷酸酸蝕琺瑯質,形成傳統且明確的微機械固位。 |
| 牙本質結果 | Selective/self-etch 保留較多 hydroxyapatite,讓 10-MDP 除樹脂滲入外,也有形成 MDP-Ca 化學作用的理論基礎。 | 磷酸移除 smear layer 並暴露膠原網;靠濕潤狀態下的樹脂滲入形成 hybrid layer。 |
| 操作敏感點 | 選錯酸蝕範圍,或把 universal 誤解成只要輕擦、不做完整 scrub/吹薄。 | 牙本質過乾造成膠原塌陷;過濕則可能稀釋材料、增加殘水與溶劑揮發負擔。 |
| 臨床取向 | 需要依 CASE 在三種策略間切換時更有彈性;琺瑯質邊緣存在時,selective-etch 常是兼顧兩種基材的做法。 | 適合已標準化全酸蝕與濕黏著、能穩定控制 blot 濕度的團隊。 |
磷酸在琺瑯質形成微孔洞,樹脂滲入後形成 resin tags。系統性回顧顯示,mild universal adhesive 加做 selective enamel etch,通常能改善琺瑯質黏著表現。
查看系統性回顧 ↗10-MDP 可與牙體 hydroxyapatite 的鈣離子形成 MDP-Ca 鹽與奈米層狀結構。這解釋了 selective/self-etch 保留礦物時的化學黏著理論,但不是 K-BOND 對 EsBond 的直接臨床勝負證明。
查看 10-MDP nanolayering 研究 ↗全酸蝕後需要維持去礦化膠原網的微孔隙,讓樹脂充分滲入。Acetone-based adhesive 對表面濕度較敏感;乾燥牙本質的樹脂滲入量可能下降,因此 IFU 要求 blot 後保持 glistening。
查看 wet/dry dentin 研究 ↗10-MDP 有明確的材料學優勢,但不能只因「有添加」就宣稱任何 CASE 都顯著更好。 最終表現仍受 10-MDP 濃度與純度、整體配方、溶劑揮發、前處理及操作品質影響。
FUNCTIONAL MONOMER · 功能性單體
10-MDP 是具「兩個功能端」的單體:磷酸端負責與含鈣牙體或金屬氧化物表面作用, 甲基丙烯酸酯端則參與後續樹脂聚合,把基材端與樹脂網路連接起來。
磷酸基團可與琺瑯質、牙本質 hydroxyapatite 的 Ca²⁺ 形成 MDP-Ca 鹽, 並觀察到自組裝 nanolayering。這是在酸蝕後的微機械固位之外,再增加一層化學作用。
查看 MDP-Ca nanolayering 研究 ↗另一端的 methacrylate 可在光照後參與自由基聚合,與黏著層及後續 composite resin 形成聚合網路;因此塗佈後的吹薄與充分光照不能省略。
10-MDP 的磷酸端可與 zirconia 表面產生離子與氫鍵等交互作用,也能作用於部分金屬氧化物表面; 但仍須依修復體 IFU 完成清潔、粗化或 primer 流程。
查看 10-MDP/zirconia 機制研究 ↗MDP-Ca 與 nanolayering 為水環境下的界面穩定提供合理機制;但不能直接外推成 「一定不水解、一定不脫落或一定不滲漏」。
K-BOND 官方支援 total/selective/self-etch。Self-etch 可省去獨立磷酸與沖洗, selective-etch 則保留 enamel margin 的磷酸微機械酸蝕;這是流程彈性,不是保證零術後敏感。
可用於 composite resin 直接修復,也可依 IFU 應用於 zirconia、金屬及其他間接修復基材。 玻璃陶瓷仍須依其 IFU 使用 hydrofluoric acid 與 silane,不能只靠 10-MDP。
促進單體與牙體充分接觸、滲入。
揮發溶劑並形成均勻黏著膜。
完成樹脂端的聚合網路。
PRODUCT DATA · REDRAWN
圖表均以 HTML/CSS 製作,數字可選取、手機可縮放。K-BOND 與 EsBond 的試體、研究單位與測試條件不同,因此分開呈現,不能把柱長當成兩產品直接排名。
怎麼讀:這組體外資料顯示同一產品在兩種模式下的測值;leaflet 沒有 selective-etch 數值,不做推算。來源:K-Bond Universal Leaflet,SPIDENT R&D internal data。
混合樹脂、玻璃陶瓷與纖維柱組有使用 silane primer。此圖只說明同一份原廠體外測試, 不能取代各修復體 IFU 的表面處理要求。
來源:EsBond Leaflet,Yonsei University College of Dentistry 測試。 本站只呈現 composite resin 直接修復圖表;其他組合不在本頁範圍。
同一份原廠內部比較中的測值。
只交代測試背景,不代表臨床邊緣厚度。
薄膜較薄可降低黏著層堆積風險,但實際厚度仍受塗佈量、吹薄方式與窩洞幾何影響。
CLINICAL WORKFLOW
先對琺瑯質與牙本質使用 FineEtch;完成沖洗、乾燥後,再進入下方 K-BOND 共同步驟。
FineEtch 10–15 秒 → 沖洗 → 乾燥,再進入 K-BOND。
不要只「擦一下」;主動摩擦是流程的一部分。
形成均勻薄膜並揮發溶劑。
再進入 restorative material placement。
Rubber dam 為 IFU 建議的隔濕方式。
琺瑯質與牙本質全酸蝕;沖洗 10 秒。
表面應保持 glistening、不可積水;過乾會妨礙 hybrid layer。
每層連續塗佈;以飽和 applicator 主動塗擦。
1200 mW/cm² 照 20 秒;600 mW/cm² 照 30 秒。
DOCTOR & SALES MODE
FOR DOCTORS
FOR SALES
OFFICIAL EVIDENCE
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